成果简介： 

       团队是我国最早开展微纳加工装备研制的单位之一，完成了我国首台最小线宽为 0.8μm 的 g 线投影光刻机、首台最小线宽为 0.7μm的 i 线投影光刻机。近年来，项目团队在投影物镜、精密工件台、对准、检焦、分辨力增强等关键技术研究方面取得突破，研究成果获得了包括国家科技进步奖在内的省部及以上奖项 20 余项，光刻设备整体研发实力处于国内领先水平。

       自主研制的单面接近接触式光刻机、双面光刻机、大面积光刻机、连续扫描光刻机、无掩模光刻机、步进投影光刻机、纳米压印光刻机等系列，拥有曝光图形质量好、光刻分辨力高、调平精度高等特点。设备自动化程度高，可满足 LED、光电探测器、应变片、MEMS、生物芯片、微光学元件、声表器件等多种微纳结构的制备需求，广泛应用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件的研制、生产、以及科研教学。

（1）紫外单面光刻机

（2）紫外双面光刻机

（3）URE-2000D 超大面积紫外光刻机

（4）DS-2000/14G 无掩模数字光刻机

（5）URE-2000A/55 移动掩模光刻机

（6）URE-2000/35NI 纳米压印光刻机

（7）URE-2000NI 纳米压印光刻机