成果简介：

台式数字光刻机用于二维材料、光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域内的微纳器件制备，该设备利用 DMD 作为数字掩模，可以实现计算机可控的任意图案光刻；引入大靶面的 CCD 成像光路，对需要曝光的样品进行实时成像，同时结合计算机绘图软件，可实现在任意曝光区域进行任意图案的绘制和曝光；四维精密电动位移台有利于绘图区域的寻找和精确定位；其整机结构呈现为台式结构，便于携带运输。

主要参数： 

曝光分辨率 1.3μm，XYZ 电动位移台定位精度±1μm，具有自动拼接功能，拼接面积 110mm×75mm，并配备相应曝光软件，可实现可视化曝光

模型设计图：

初样实物图：

软件登陆界面：

曝光的 1.3 微米线宽的图案：

曝光的各种图案：